高精密(mi)數控雙面研磨機設備用途：

該(gai)機主要(yao)適用于超高精密零(ling)部件的雙(shuang)面研磨(mo)拋(pao)光，光學(xue)晶體材料、硅片、砷化鎵(jia)片、刀片、金屬件、石英及其(qi)他(ta)硬脆材料等(deng)高平面度(du)、高平行度(du)要(yao)求的雙(shuang)面高精度(du)研磨(mo)拋(pao)光。

高精密數控雙面研(yan)磨機設(she)備特點(dian)：

1.采用德(de)國(guo)FESTO氣(qi)動元(yuan)件(jian)，分(fen)段精(jing)密加壓(ya)控制(zhi)，適(shi)合(he)粗磨、中磨、精(jing)磨、精(jing)拋等工藝要(yao)求。

2.系列研磨機采用四段壓力,即輕壓、中壓、重壓、修研的運行過程(cheng)。

3.上磨盤快升、快降(jiang)(jiang)、緩升、緩降(jiang)(jiang)集(ji)中于一個手柄(bing)，操作更方便。

高精密雙面研磨機設備原理：

本系列研(yan)磨(mo)機為超(chao)高精(jing)密研(yan)磨(mo)設備，上、下研(yan)磨(mo)盤作相(xiang)反方向轉(zhuan)動(dong)，工件在載體內作既(ji)公轉(zhuan)又自轉(zhuan)的游星(xing)運動(dong)。磨(mo)削阻力小不損傷工件，而(er)且(qie)兩面均勻磨(mo)削生產效(xiao)率高。